中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。
本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。
国务院知识产权行政部门依照本条例的规定，负责布图设计专有权的有关管理工作。
布图设计权利人享有下列专有权：
(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；
(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
布图设计专有权属于布图设计创作者，本条例另有规定的除外。
由法人或者其他组织主持，依据法人或者其他组织的意志而创作，并由法人或者其他组织承担责任的布图设计，该法人或者其他组织是创作者。
两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计，其专有权的归属由合作者约定；未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。
